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观点网讯：9月28日消息，英伟达首席执行官黄仁勋将于当地时间9月28日在纽约再度会晤三星电子会长李在镕、SK集团会长崔泰源，距离三人7月在旧金山会面时隔约两个月。

据27日商界消息人士透露，李在镕与崔泰源计划出席28日晚6点在纽约举办的韩国协会年度晚宴，黄仁勋将作为本年度范弗利特奖得主出席该活动。

本次会面中，行业最关注的议题是高带宽内存HBM，三星电子正加速推进该领域与英伟达的合作。

消息称，三星电子设备解决方案事业部副会长全永铉曾在黄仁勋6月访韩期间与其会面，双方探讨HBM4E、HBM5等下一代HBM的长期合作。

纽约会晤还可能涉及晶圆代工服务与先进封装，这也是三星的优势领域。全永铉与黄仁勋在6月会谈中，也讨论了下一代晶圆代工的合作。

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